濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputterdeposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶target(或源source)中的原子被高能量離子(通常來自等離子體) ...
維基百科,自由的百科全書
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputter deposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶"target"(或源"source")中的原子被高能量離子(通常來自電漿)撞擊而離開固體進入氣體的物理過程。
濺鍍一般是在充有惰性氣體的真空系統中,通過高壓電場的作用,使得氬氣電離,產生氬離子流,轟擊靶陰極,被濺出的靶材料原子或分子沉澱積累在半導體晶片或玻璃、陶瓷上而形成薄膜。
濺鍍的優點是能在較低的溫度下製備高熔點材料的薄膜,在製備合金和化合物薄膜的過程中保持原組成不變,所以在半導體器件和集成電路製造中已獲得廣泛的應用。
包括:
濺鍍流程 半導體濺鍍 濺鍍產品 濺鍍機操作 濺鍍原理ppt 濺鍍目的 濺鍍優點 射頻濺鍍優缺點 自然美生物科技股份有限公司ptt 32CH NVR ios android轉移 A65T BXB c901 BXB FUN gigastone立達國際評價 黑 貂 運動眼鏡 價格
共濺鍍機— 國立成功大學 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
共濺鍍系統之優點在於能同時利用多個靶材進行濺鍍製程,可針對個別材料進行參數調整,搭配旋轉載台裝置可獲得相當均勻之薄膜沉積,且其薄膜品質再現性佳,可加熱到500℃, ... Read More
濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputter deposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶target(或源source)中的原子被高能量離子(通常來自等離子體) ... Read More
磁控共濺鍍設備 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
磁控共濺鍍主要用於-複合金屬或複合材料,通過分別優化每一支磁控濺鍍槍(靶材)的功率來控制薄膜品質,其薄膜厚度取決於濺鍍時間。 SYSKEY的磁控共濺鍍腔提供了精準控制多 ... Read More
共濺鍍系統CO | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
腔體尺寸:500mm X 500mm X 400mm 2. 載台旋轉機構 3. 6吋視窗 4. 2吋磁控腔 5. RF-300W,DC-1000W 6. 渦輪高真空幫浦 7. 按鍵氣動互鎖保護 8. PC-510流量控制器 Read More
相關資訊整理
102 年度台灣精品獎獲獎產品 氣動夾頭
由「晟進科技股份有限公司」生產的氣動夾頭獲得102年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得獎產品:氣動夾頭獎項:精...
103 年度台灣精品獎獲獎產品 生肖紀念金銀幣
由「光洋應用材料科技股份有限公司」生產的生肖紀念金銀幣獲得103年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得獎產品:生...
109 年度台灣精品獎獲獎產品 In-Line Vacuum Sputtering Equipment
由「友威科技股份有限公司」生產的In-LineVacuumSputteringEquipment獲得109年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得...