CMP SLURRY供給設備 商品服務 東橫化學台灣分公司 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
CMP(ChemicalMechanicalPolishing–半導體製造的研磨技術)是,近年的設備製造‧發展無法缺少的技術。並且處理主要讓藥液分散砥粒的是使用「SLURRY」。
CMP(Chemical Mechanical Polishing –半導體製造的研磨技術)是,近年的設備製造‧發展無法缺少的技術。 並且處理主要讓藥液分散砥粒的是使用「SLURRY」。 本公司有再研究開發‧販賣CMP用的SLURRY供給設備。
CMP SLURRY供給系統的特徵・並列供給方式及安定供給 ・高精度調配(從複數的調和方式,最適合調和方式選擇可能)。 ・觸控面板操作簡單 ・自動洗淨機能 ・內部狀況一目了然透明槽
CMP SLURRY供給系統的規格・調和/供給槽並聯供給方式 ・純水稀釋,H2O2 機能添加 ・自動配管水洗功能 ・CMP連接可能台數1~5台
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2002年11月7日 — 帆宣系統科技成立於民國77年,為IC半導體、TFT LCD、Color Filter、LED、砷化鎵(GaAs)等製程設備與材料的專業代理商及廠務自動化整合工程廠商。 Read More
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