濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![濺鍍](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputterdeposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶target(或源source)中的原子被高能量離子(通常來自等離子體) ...
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PVD濺鍍原理 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
PVD是英文Physical Vapor Deposition,中文意思是“物理氣相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制做技術。 2. PVD鍍膜技術的原理—. Read More
PVD濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
c. 濺鍍( Sputtering Deposition ) 25~10,000 Å/min。 d. PVD通常需在真空下進行,其真空需求約為: 10-0 ~10-4 Pa. (10- 2 ... Read More
真空濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2010年7月7日 — 真空濺鍍的基本原理是在真空鎗體內,以高壓放電於微量氣體(通常為氬氣),來產生電漿,使其成為電子與離子游離的高能狀態。 在濺鍍過程中,高能的氣體離子 ... Read More
PVD真空鍍膜(濺鍍) | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
PVD真空電鍍(濺鍍)介紹: ... PVD是:Physical Vapor Deposition英文的縮寫,中文意思是:物理氣相沉積。主要意思是指在真空條件下,在真空狀態下注入氬氣,氬氣樁基靶材, ... Read More
濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputter deposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶target(或源source)中的原子被高能量離子(通常來自等離子體) ... Read More
濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺射(sputtering),也稱濺鍍(sputter deposition/coating),是一種物理氣相沉積技術,指固體靶target(或源source)中的原子被高能量離子(通常來自等離子體) ... Read More
濺鍍原理 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境,將陰極加至數百伏特電壓,讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿,並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材表面,以 ... Read More
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109 年度台灣精品獎獲獎產品 In-Line Vacuum Sputtering Equipment
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102 年度台灣精品獎獲獎產品 氣動夾頭
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