EUV lithography systems – Products | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
Providinghighresolutioninhigh-volumemanufacturing,ASML'sextremeultraviolet(EUV)lithographysystemsarepushingMoore'sLawforward.
Researchers and scientists first began to explore EUV lithography in the 1980s, with the first successful applications of this new technology occurring toward the end of the decade.
Work to industrialize the technology kicked off in 1994, with a coalition of semiconductor industry companies (including ASML) delivering the very first prototype. This prototype proved that EUV lithography was possible, and the industry started to pursue the technology.
But EUV was a challenging and costly pursuit and, in time, only ASML – with our partners and suppliers – continued work toward a viable system. In August 2006 we shipped the world’s first EUV lithography demo tool to the College of Nanoscale Science & Engineering in Albany, in the US, and to imec in Leuven, Belgium. The college and company used these prototypes to learn about EUV and how it might f...
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