半導體化學機械研磨(CMP)材料供應商名單彙整 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![半導體化學機械研磨(CMP)材料供應商名單彙整](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
2022年6月5日—CMP製程會用到研磨液(CMPslurry)、研磨墊(CMPpad)及鑽石碟(CMP...3M:美國明尼蘇達礦業及製造公司;Asahi:日本Asahi鑽石工業株式會社 ...
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化學機械研磨(chemical mechanical polishing or planarization, 簡稱CMP)技術,可以將晶圓(wafer)的表面研磨成像鏡面一樣光滑,是晶圓製造商(例如環球晶、台勝科)及晶片製造商(例如台積電、聯電、三星、Intel)都會用到的製程技術。
化學機械研磨製程,會用到研磨液(CMP slurry)、研磨墊(CMP pad)及鑽石碟(CMP conditioning disk)三種材料。剛從晶柱(ingot)上切割出來的晶圓,表面粗糙,要放在研磨墊上研磨;剛完成一層電路製作的晶圓也需要研磨,讓晶片上沉積的介電層或導電層平坦化,以便進行下一層電路製作。研磨墊上會滴入研磨液,裡面含有化學物質及研磨粒子,研磨液會在研磨墊上不斷地流動,讓表面粗糙的晶圓隨著研磨的進行逐漸平坦化。研磨墊使用一段時間後,需要使用鑽石碟進行修整,以維持研磨的效能。
研磨液、研磨墊及鑽石碟是半導體製造過程中的重要耗材(consumables),國際半導體產業協會(semi.org)對這三種耗材分別訂定了許多標準,俾便供應商遵行。
台積電在2021年報上公布的「主要原物料供應狀況」這張表格中,最後一個大項就是研磨液、研磨墊及鑽石碟的主要供應商名單。請參考下表。
上述供應商名單內都是國外廠商。台股投資人可能會有疑問:中砂(台股代號:1560)是台積的3奈米鑽石碟最大供應商、未上市的智勝科技也是台積重要的研磨墊供應商,怎麼都沒在名單內?
CMP製程的三種材料,耗用成本最高的是研磨液,這並非國內廠商的擅長項目。此外,上述名單中的廠商,許多都同時供應兩種或三種耗材,這就比起分別專注供應鑽石碟及研磨墊的中砂及智勝更有份量。
本文以上述台積供應商名單為基礎,參考重要的CMP產業分析報告,整理出CMP三種耗材的主要供應商名單,供各位讀者參考。
全球主要CMP slurry供應商 根據Transparency Market Research的產業分析報告(摘要連結[1]),全球主要的CMP研磨...CMP Slurry | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
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