濺鍍(Sputtering)原理 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![濺鍍(Sputtering)原理](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
電漿的產生是在真空下,藉由施加高偏壓於金屬板,此為陰極,而相對此電極包括桶身皆為陽極,通入的惰性氣體如Ar、N2、O2…等受到高的電壓差下,使得外層電子受到高的 ...
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在濺鍍的製程上,電漿的產生是不可或缺的,由於電漿的作用下,製程得以進行。電漿的產生是在真空下,藉由施加高偏壓於金屬板,此為陰極,而相對此電極包括桶身皆為陽極,通入的惰性氣體如Ar、N2、O2…等受到高的電壓差下,使得外層電子受到高的能量而游離形成離子,而游離出的電子在與氣體原子碰撞或是碰到腔壁接地,因電子撞擊使得原子進行解離、離子化及激發等反應,產生的離子、原子、原子團以及電子,以維持電漿內各粒子間的濃度平衡,此為電漿。
而濺鍍之原理是在真空腔體中以靶材為陰極,通入惰性氣體,氣體內少量的自由電子受到外加電場作用,電子在電場中會被加速獲得能量,在低壓分子間平均自由徑比常壓長,故電子會有較長的加速距離而獲得高的能量,高能量的電子經由碰撞運動將動能轉移至惰性氣體上,使得氣體分子被離子化形成電漿,因電場的作用下,氣體中的正離子受到陰極靶材端所吸引,加速撞擊靶材表面。基於動量轉換原理,離子轟擊產生了二次電子另外還會將靶原子給擊出,而沉積於工件上,此動作稱為濺鍍。
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