Centura Tetra EUV 先進光罩蝕刻系統 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![Centura Tetra EUV 先進光罩蝕刻系統](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時,所有的光罩材料都是不透光的,因此具複合多層薄膜的光罩,功用如同反射鏡,可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜EUV光罩在臨界 ...
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提升EUV微影製程良率新一代光罩檢測系統幫大忙 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
極紫外光微影之高階材料檢測分析 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年2月5日 — EUV光罩反射層之規格與製作困難度與傳統DUV微影光罩相差甚遠。對於波長13.5奈米的反射面而言,只要有相當於1/4波長3.375奈米的平坦度差別即會造成破壞 ... Read More
TWI477927B | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
本發明另提供一種極紫外光(EUV)光罩,包括:一低熱膨脹材料(low thermal expansion material,LTEM)基板;一導電層,沉積於該低熱膨脹材料(LTEM)基板之一第一表面上;一 ... Read More
極紫外光微影製程 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同,當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時,所有的光罩材料都是不透光的,因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。 Read More
极紫外光刻 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
然而EUV光罩與傳統的光罩截然不同,當採用13.5nm波長的極紫外光微影技術時,所有的光罩材料都是不透光的,因此具複合多塗層反射鏡的光罩可將電路圖案反射到晶圓上。 Read More
Centura Tetra EUV 先進光罩蝕刻系統 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
當採用13.5nm 波長的極紫外光微影技術時,所有的光罩材料都是不透光的,因此具複合多層薄膜的光罩,功用如同反射鏡,可將電路圖案反射到晶圓上。這種多層膜EUV 光罩在臨界 ... Read More
【歷史上的今天】搭上EUV熱潮的家登EUV光罩盒很了不起嗎? | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年3月20日 — ASML的微影機台; 光罩盒透視圖; EUV光罩盒實際外觀; 晶圓運輸盒 ... 光罩是半導體製程中不可或缺的一項工具,由於現今的IC晶片已進入的奈米層級,製程 ... Read More
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