奈米壓印(Nanoimprint Lithography | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![奈米壓印(Nanoimprint Lithography](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
2007年11月5日—Nanoimprint一字源於1995年S.Y.Chou教授首次使用,係指使已成型的微細加工模具壓印到塗佈樹脂的基板上,亦即將模具上的圖案轉印到樹脂上的技術。
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Nanoimprint Lithography(NIL)技術的原理簡易,卻能獲取奈米級圖案,深獲各界重視。NIL技術發展以日本為例即可見端倪,一直以來日本對NIL技術的研究開發都以大學為主導;但最近由企業研發單位發表的NIL相關設備、材料、模具的論文明顯增加可看出,NIL技術的實用化腳步正在加速當中。Nanoimprint一字源於1995年S.Y.Chou教授首次使用,係指使已成型的微細加工模具壓印到塗佈樹脂的基板上,亦即將模具上的圖案轉印到樹脂上的技術。發展至今,奈米壓印(Nanoimprint Lithography,NIL)技術的優點如製程簡單、不需高價設備、頗適合量產製程等,可望成為下一代微影蝕刻(Lithography)技術的後繼者。
Nanoimprint技術 NIL技術在電子領域的應用發展已著實在進展中,例如硬碟公司視NIL技術為下一代記憶媒體開發之關鍵技術而積極在開發;顯示器領域的光學膜開發也將注意力集中在NIL技術;當初視NIL技術的應用為高難度的半導體領域,在技術開發上也有顯著的進步。具實用性的NIL技術主要有兩種方式,如圖一所示。
圖一具實用性的奈米壓印技術主要有兩種
1. 熱Nanoimprint 設備簡便,可形成10nm級的結構,且可大面積製作,有發展成量產技術的潛力。已確認在4英吋晶圓上具30nm的轉印精度,模具與基板間位置對準不嚴苛、屬於單層imprint的元件製作,適於高密度Memory Disk、光學元件、繞射晶格光學元件之製作等。
2. UV Nanoimprint 利用室溫製程,在石英基板表面形成具凹凸圖案的透明模具。通常使用低黏度光硬化性樹脂做為光阻(Photoresist),施加在石英模具光阻上的壓力只要0.1MPa以下(熱Nanoimprint需加壓力5~10MPa),因此其位置對準精度可期待做到與目前的光Stepper同等程度。此外,圖案轉印使用的是紫外光,其解析度不受波長的影響,決定於石英模具圖案的大小。目前,Chou教授研究群目前成功做...
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