MOCVD 有機金屬化學氣相沉澱設備 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![MOCVD 有機金屬化學氣相沉澱設備](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
2020年10月13日—MOCVD的基本原理如圖一所示,最重要的是中央噴嘴,氣體會從中央噴嘴噴出來。基板放在承載盤上,承載盤會旋轉。因為中央噴嘴和基板是靠得很近的,所以 ...
![MOCVD 有機金屬化學氣相沉澱設備](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
在半導體的製程中,有一步驟是要在基板上生成出半導體薄膜,基板有了這半導體薄膜,就可以將其製作成不同的光電、電子元件,當然不同的元件需要有不同種類的生成薄膜。這種設備的英文名字是MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Phase Deposition),這種設備過去都要靠進口,而且價格非常昂貴。我國現在已經有了國產的MOCVD,價格當然也不便宜。
臺灣工程師經過很多年的研究,在半導體的製程設備中有重大的突破,令我們值得驕傲!(圖/123RF)MOCVD的基本原理如圖一所示,最重要的是中央噴嘴,氣體會從中央噴嘴噴出來。基板放在承載盤上,承載盤會旋轉。因為中央噴嘴和基板是靠得很近的,所以噴出來的氣體會到達基板,經由化學作用成為薄膜。
MOCVD的基本原理,最重要的是中央噴嘴,氣體會從中央噴嘴噴出來。(圖一)
在過去,中央噴嘴做得像洗澡的蓮蓬頭,讓氣體從上往下覆蓋在基板上。這種做法有一個缺點,那就是氣體噴出來以後,可能因為化學反應而產生一些副產品。這種副產品是非常微量的,可是仍然不利於薄膜。現在氣體以水平方向噴出,而基板則是掛在上方,因為基板面朝下,可以大大的減少基板上有汙染(Particle)產生,生產出來的產品品質就會比較好。
不同的氣體,它們的壓力和流速以及基板上的溫度都必須加以調整。這家公司的MOCVD是可以讓工程師調整參數的。工程師除了要了解化學,也需要不斷測試,才能夠讓設備生成出理想的薄膜。
在承載盤和基板上也做了很好的旋轉設計,承載盤本身會旋轉,放基板的載具也會自轉,機械式的齒輪結構讓所有基板都能以一樣的速度旋轉,使得薄膜厚度和化學組成可以均勻的分佈在所有基板上。此外,基座上上方有加熱器,能夠將溫度加熱到攝氏1550度以上,不僅如此,還可以分區控溫讓基板溫場維持均溫,符合各種生成薄膜的客製需求。
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