挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![挽救摩爾定律:ASML 極紫外光(EUV)微影技術量產的開發歷程](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
2021年2月15日—日前,蘋果更宣布用於MacPC的新晶片:這片5奈米世代的晶片上含有160億個電晶體。EUV微影技術使摩爾定律得以延續。ASML上週財報中指出該公司於2020 ...
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2019 年底在舊金山舉辦的年度國際電子元件會議(IEDM)上,台積電公布的兩個報告標誌著積體電路製造邁入了 EUV 微影時代。第一個報告宣布了應用 EUV 微影技術的 7 奈米世代的改良版晶片已經於 2019 年正式量產,我們知道這個技術已經用在 2019 年生產的麒麟 990 5G 這顆有多於 100 億個電晶體的晶片上。
第二個報告宣布了 2020 年量產的 5 奈米世代將會有十幾層的製程用 EUV 微影技術來完成,取代多於它四倍(四十幾層)的 193 奈米浸潤式微影技術。果然,2020 年秋天,蘋果公司的 5G 旗艦手機已經搭載台積電製造的 5 奈米世代的晶片。日前,蘋果更宣布用於 Mac PC 的新晶片:這片 5 奈米世代的晶片上含有 160 億個電晶體。EUV 微影技術使摩爾定律得以延續。
ASML 上週財報中指出該公司於 2020 年底慶祝第 100 台 EUV 極紫外光微影系統出貨。台灣目前更是全球 EUV 最大的裝機基地。EUV 微影技術歷經 20 餘年的實驗室研發,以及 12 年的量產研發,至今成為半導體先進製程中最重要的生產工具。ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南,正是推動 EUV 應用在量產階段的靈魂人物。
▲ ASML 全球副總裁暨技術開發中心主任嚴濤南博士
EUV 微影技術採用錫的電漿來產生波長為 13.5 奈米的光源,以及用鉬矽多層反射薄膜來把光傳遞到晶片上。不同於一般的紫外光微影技術,EUV 微影技術得在低真空中運作,技術難度更高。
EUV 微影技術以實驗室形式的研發(日本,美國,歐洲,包括 ASML 和 Cymer)已經走過了二十多年卻仍達不到量產的技術要求,但也沒有被放棄。理由只有一個:因為沒有 showstopper(明顯的重大問題)。當時業界普遍認為如果 EUV 能用於量產就可以讓摩爾定律延續生命。 這是個巨大的誘惑。台積電是全球最大的半導體代工廠,在先進製程獨占...
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