電 漿 鍍膜 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
高游離比率之高粒子動能成長薄膜的方式是未來PVD鍍膜技術發展之趨勢。然而,.由於電漿現象的複雜、檢測設備的昂貴與實際鍍膜設備的限制,根據經驗,歷來製.,低溫大氣壓電漿鍍膜降低成本兼顧環保.陶曉嫚.以往光電產業中最關鍵的「金屬氧化物材料」(metal-oxide)鍍膜製程,必須在真空、 ...,A:電漿濺鍍法係在低真空度中(一般為在真空中充氬氣-Ar)及高電壓下產生輝光放電形成電漿,攜帶能量之正離子(Ar+)飛向陰極,轟擊陰極之薄膜材料(稱之為靶材-Target)表面 ...,濺鍍(sputtering)是利用電漿(plasma)對靶材料進行離子轟擊(ion......
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— 高密度電漿鍍膜技術 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
高游離比率之高粒子動能成長薄膜的方式是未來PVD鍍膜技術發展之趨勢。然而,. 由於電漿現象的複雜、檢測設備的昂貴與實際鍍膜設備的限制,根據經驗,歷來製. Read More
低溫大氣壓電漿鍍膜降低成本兼顧環保 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
低溫大氣壓電漿鍍膜降低成本兼顧環保. 陶曉嫚. 以往光電產業中最關鍵的「金屬氧化物材料」(metal-oxide)鍍膜製程,必須在真空、 ... Read More
何謂電漿濺鍍法? | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
A: 電漿濺鍍法係在低真空度中(一般為在真空中充氬氣-Ar)及高電壓下產生輝光放電形成電漿,攜帶能量之正離子(Ar+)飛向陰極,轟擊陰極之薄膜材料(稱之為靶材-Target)表面 ... Read More
技術與能力 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍(sputtering)是利用電漿(plasma)對靶材料進行離子轟擊(ion ... 材,濺射出更多的靶原子沉積於基板上,因此磁控濺鍍源(cathode)可大幅提昇濺鍍時的鍍膜速度。 Read More
連續生產型超高頻電漿增強式鍍膜設備設計及其性能探討 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
並藉此使條件來規劃設備製程參數範圍(功率密. 度)、真空性能(壓力)、硬體(電極間距)。 PECVD的能量來源電漿電位通常採用射頻電. 源(Radio frequency, RF),圖3 所示為輸入 ... Read More
鋨碳電漿鍍膜機> 捷東股份有限公司Jiedong | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
低溫coating,對於生物,高分子與熱敏感材料是絕佳的選擇; CVD 電漿鍍膜方式無PVD物理鍍膜的陰影效應, 對表面 ... Read More
鍍膜技術實務 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
觀型態、電性、機械性、介質膜之化學組成等為考慮因素). 1. PECVD (Plasma-Enhanced CVD):. 電漿助長型化學氣相沈積法,此為利用一般CVD系統之熱. 能外,另加電漿能量 ... Read More
電漿塗佈(Plasma Coatings) | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年6月27日 — 在電漿鍍膜製程中,物件表面會形成奈米級聚合物層,過程只需幾分鐘。產生的塗層通常比人類頭髮直徑1/100倍還薄,無色、無味,且不會影響材料的外觀或 ... Read More
電漿鍍膜 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
現在鍍膜的製程耗能且材料有價格波動問題。相較於傳統真空環境製程,團隊的「大氣電漿鍍膜技術」省了一半以上的電力,也節省了60%的設備空間。 ITO 觸控面板 電漿噴嘴 ... Read More
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109 年度台灣精品獎獲獎產品 In-Line Vacuum Sputtering Equipment
由「友威科技股份有限公司」生產的In-LineVacuumSputteringEquipment獲得109年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得...