Nikon DUV | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
Nikonofferstheindustry-leadingDUVNSR-S322FArFandNSR-S220DKrFscanners,whichutilizetheinnovativeStreamlignplatformtodeliverworld-class ...,2020年11月24日—在宣布裁員前,Nikon其70-80%的光刻機營收都是來自Intel公司,...二是Nikon光刻機仍在DUV水平,即是勉強可生產7nm晶片(會良率低), ...,2020年10月22日—現在最先進細微化電路設計採用的DUV(深紫外線)類型的光刻機,市場年供求量約為200~300台,最新機型價格約6億美元,對製造商來說要採購這種設備,通常 ...,Resolution,≦38nm.NA,1.35.Exposurelightsource,ArFexcimerl...
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Deep UV lithography scanners enable high ... | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
Nikon offers the industry-leading DUV NSR-S322F ArF and NSR-S220D KrF scanners, which utilize the innovative Streamlign platform to deliver world-class ... Read More
Intel 自顧不暇,Nikon 光刻機滯銷,或者成為中國的希望 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2020年11月24日 — 在宣布裁員前,Nikon 其70-80% 的光刻機營收都是來自Intel 公司, ... 二是Nikon 光刻機仍在DUV 水平,即是勉強可生產7nm 晶片(會良率低), ... Read More
Nikon、Canon 日系光刻機為何被後起之秀ASML 超越? | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2020年10月22日 — 現在最先進細微化電路設計採用的DUV(深紫外線)類型的光刻機,市場年供求量約為200~300 台,最新機型價格約6 億美元,對製造商來說要採購這種設備,通常 ... Read More
Semiconductor Lithography Systems | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
Resolution, ≦ 38 nm. NA, 1.35. Exposure light source, ArF excimer laser (193 nm wavelength). Reduction ratio, 1:4. Maximum exposure field, 26 mm × 33 mm. Read More
美國施壓ASML、Nikon 對大陸禁售深紫外光設備 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年7月6日 — 而這些DUV系統雖然在技術層次上無法與當前最尖端的極紫外光曝光設備(EUV)相比,但仍是生產汽車、手機、電腦、甚至是機器人晶片時最常使用到的設備。 Read More
美國遊說ASML禁售DUV設備給中國台積電、聯電撿到槍中芯 ... | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年7月7日 — 深紫外光(DUV) 微影設備是半導體製程不可缺的主要設備,荷商ASML、日本的Nikon、Canon是供應商,先進製程的EUV微影設備則是ASML獨家供應;外電 ... Read More
美擋艾司摩爾DUV售陸 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年7月7日 — 彭博資訊報導,美國正向荷蘭、日本等國施壓,要求荷商艾司摩爾(ASML)、日商尼康(Nikon)禁止銷售陸企半導體成熟製程生產必備的深紫外光(DUV)機台 ... Read More
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