asml euv光刻機 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年4月17日—晶片之於曝光機,就如同人和大腦的關係,但縱覽幾十年全球球光刻機產業的發展卻表現的...(ASMLEUV光刻機TWINSCANNXE3400B,來源:ASML官網) ...,2022年5月20日—路透報導,ASML(艾斯摩爾)正在研發一款新的半導體EUV(極紫外光)光刻機,價值4億美元(約119億台幣),大約有雙層巴士大小,重量超過200公噸, ...,2022年6月27日—下圖說明了邏輯和DRAM(條)的EUV層數和每年使用EUV曝光的晶圓(面積)。據ASML公司的MikeLercel介紹,以典型的5nm工藝為例,2021年的邏輯值是10層 ...,2022年6月17日—於半導體生產中,光刻...
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半導體解密:ASML曝光機憑什麼能一廠獨大?台積電總 ... | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年4月17日 — 晶片之於曝光機,就如同人和大腦的關係,但縱覽幾十年全球球光刻機產業的發展卻表現的 ... (ASML EUV 光刻機TWINSCAN NXE3400B,來源:ASML 官網) ... Read More
一台要價近120億台積電已下單?ASML正開發新一代EUV光刻機 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年5月20日 — 路透報導,ASML(艾斯摩爾)正在研發一款新的半導體EUV(極紫外光)光刻機,價值4億美元(約119億台幣),大約有雙層巴士大小,重量超過200公噸, ... Read More
EUV光刻機最新路線圖 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年6月27日 — 下圖說明了邏輯和DRAM(條)的EUV層數和每年使用EUV曝光的晶圓(面積)。 據ASML公司的Mike Lercel介紹,以典型的5nm工藝為例,2021 年的邏輯值是10 層 ... Read More
供不應求ASML:EUV光刻機產能即將大提升 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年6月17日 — 於半導體生產中,光刻機是核心設備,不僅決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步,目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm製程皆需要EUV光 ... Read More
全方位微影技術介紹 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
你不可不知的科技公司. ASML為引領全球半導體產業創新的領導者,為全球晶片製造商提供全方位的微影系統、軟體與服務,來進行晶片量產. Read More
國教院跟風中國? EUV曝光機變「光刻機」 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年6月29日 — 工研院產業科技國際策略發展所研究總監楊瑞臨指出,最貴的微影設備曝光機研發難度高,荷商艾司摩爾(ASML)在全球市占率超過八成,中國無技術能力,在成熟 ... Read More
最新光刻機被台積電拿走!英特爾慌了!ASML明確新一代EUV ... | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
EUV光刻機成本15億ASML只售予5晶片商 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2022年3月25日 — 最新一代的EUV光刻,是艾斯摩爾的獨家技術,它僅使用13.5納米波長,在晶圓上刻錄最精細圖案。以一枚3納米制程的高級邏輯晶片為例,由大約80層結構組成, ... Read More
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