PVD濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍是利用氬離子轟擊靶材,.藉由動量轉換將靶材表面原子濺出靶材本體,.變成氣相的原子再受到外加電場的影響進而沉積.於基材上形成薄膜。PVD濺鍍原理.
1. 何謂PVD:
物理氣相沈積(Phyasical Vapor Deposition)
2. PVD ( Physical Vapor Deposition ) 的種類:
a. 蒸鍍 ( Evaporation Depostion) 100~250,000 Å/min。
b. 離子鍍 ( Ion Plating ) 100~250,000 Å/min。
c. 濺鍍 ( Sputtering Deposition ) 25~10,000 Å/min。
d. PVD通常需在真空下進行,其真空需求約為 : 10-0 ~10-4 Pa
(10- 2~10-6 torr)。
3. PVD的用途:
妝飾,抗腐蝕,耐磨,導電,絕緣,反光,反射熱,
散熱,抗菌處理。
...
PVD濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
友威科技股份有限公司 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
晶業達科技有限公司 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍光學 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍源 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍靶材-Sputtering targets | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
產品資訊- ULVAC | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
真空濺鍍專業代工 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
符合「真空濺鍍」的搜尋結果共有36筆 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
銳特機電股份有限公司 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
102 年度台灣精品獎獲獎產品 氣動夾頭
由「晟進科技股份有限公司」生產的氣動夾頭獲得102年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得獎產品:氣動夾頭獎項:精...
109 年度台灣精品獎獲獎產品 In-Line Vacuum Sputtering Equipment
由「友威科技股份有限公司」生產的In-LineVacuumSputteringEquipment獲得109年度台灣精品獎,以下為此獎項詳細資料整理:得...