何謂靶材 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
![何謂靶材](https://i.imgur.com/DERULla.jpg)
何謂靶材(一)靶材(Target)是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料。濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法,在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生游離, ...
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靶材 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍靶材-Sputtering targets | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺射鍍膜系統是在高真空環境中充入工作氣體(一般為氬氣),藉由兩個相對應的金屬板(陽極板和陰極板),施加電壓產生電漿,電漿中的正離子被陰極板的負電壓吸引加速,具有高 ... Read More
玩什麼「靶」戲?什麼是靶材?光洋科經營權之爭誰是誰非? | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年11月30日 — 所謂的「靶材(Target)」其實就是一塊純度很高的金屬或非金屬材料,利用氬電漿(一團氬離子與電子)撞擊靶材,將靶材的原子撞出來的技術稱為「濺鍍( ... Read More
半導體晶圓用濺鍍靶材 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
2021年12月22日 — 電弧靶 是以電弧激發原子,稱為電弧離子鍍(AIP, Arc Ion Plating),能直接與氣體反應,主要用在裝飾鍍及工具表面硬化鍍層,如TiN、TiC、TiCN…等,膜厚約3~ ... Read More
何謂靶材 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
何謂靶材(一) 靶材(Target)是半導體、光電業常用的一種濺鍍材料。濺鍍是利用高壓液相沉積法或高壓氣相沉積法,在真空、高電壓等環境中使靶材表面的電子發生游離, ... Read More
【XRF】XRF在濺鍍靶材上的應用 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍靶材(sputter target)是一種具有高附加價值的鍍膜材料,是現代薄膜科技的關鍵材料;主要使用在微電子,顯示器,記憶體、ITO導電玻璃、CD-R、被動元件、石英振蕩 ... Read More
濺鍍 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍一般是在充有惰性氣體的真空系統中,通過高壓電場的作用,使得氬氣電離,產生氬離子流,轟擊靶陰極,被濺出的靶材料原子或分子沉澱積累在半導體晶片或玻璃、陶瓷上而 ... Read More
PVD 靶材 | 台灣精品獎-歷屆得獎名單
濺鍍靶 用電漿激發原子, 稱為磁控濺鍍(Magnetron Sputtering), 廣泛用在各種光電及半導體產業. 濺鍍膜層細緻平滑, 膜厚可精密控制, 重覆性好, 從導體到絕緣體皆可做為靶材. Read More
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